| 加工定制：否 | 品牌：捷扬 | 型号：HPF-02 |
光谱反射仪是一种功能强大切且非接触式的薄膜测量方法，膜厚仪器，当薄膜厚度和光学常数在测量系统范围内时，系统能又快又轻松的测量。在用来测量薄膜厚度时，有几种常见的对光谱反射仪的误解。比如： 1. 它只能测量薄膜厚度，且需要预先知道光学常数(折射率和消光系数); 2. 和椭偏仪相比它的精度较低; 3. 只有一到两个厚度可同时测量。 这些误解反映了光谱反射仪这种技术没有被充分利用。其使用方法和数据分析有待进一步的深入。 光谱反射仪和椭偏仪都是间接的测量方法，都需要建立一个模型，通过调整物理参数(厚度和光学常数)，使得模型与测量得到的反射率曲线达到拟合度，以此来反推计算薄膜厚度和光学常数。椭偏仪考虑了光的极化，采用P波和S偏振反射光之间的相位差异，然而光谱反射仪不使用相位差，光学膜厚仪，非常薄的薄膜对相位差敏感度很高，但薄膜厚度增加相位差敏感度会减少。事实上，椭偏仪在下列情况下较光谱反射仪有明显优势： 1. 待测薄膜很薄<10纳米 2. 在测量非吸收薄膜时，同步测量T、n(K=0) 3. 直接测量n，k值(主要用于未知材料的基片) 但是光谱反射仪在下列情况下具有明显的优势： 1. 精度要求较高的厚度测量(除很薄的薄膜外)MProbe精度<0.01纳米 2. 测量较厚的薄膜(>10微米)。Mprobe精度达到500微米 3. 更高的测量速度 Mprobe<1毫秒 4. 测量表面粗糙度 这两种技术都可以测量复杂的多层薄膜，计算其厚度和材料的n、k值。 通常人们都使用光谱反射仪，认为它适合简单的厚度测量：一至二层薄膜。下面是一些使用光谱反射仪证明其存在更复杂的应用能力的例子：通常，测量poly-Si多晶硅和SiN(氮化硅)是两个主要应用，导致了椭偏仪和光谱反射仪在半导体工业领域里有着广泛的应用。以传统的使用方法，显然不适合这些应用。因此，说明光谱反射仪的应用是非常有意义的。事实上如果运用得当，测量它们非常成功。
光谱学是测量紫外、可见、近红外和红外波段光强度的一种技术。光谱测量被广泛应用于多种领域，光谱仪，如颜色测量、化学成份的浓度检测或电磁辐射分析等。
光谱仪器一般都包括入射狭缝、准直镜、色散元件（光栅或棱镜）、聚焦光学系统和探测器。而在单色仪中通常还包括出射狭缝，近红外光谱仪，让整个光谱中一个很窄的部分照射到单象元探测器上。单色仪中的入射和出射狭缝往往位置固定而宽度可调，光纤光谱仪原理，可以通过旋转光栅来对整个光谱进行扫描。
在九十年代，微电子领域中的多象元光学探测器迅猛发展，如 CCD 阵列、光电二极管（ PDA ）阵列等，使生产低成本扫描仪和 CCD 相机成为可能。
由于光通信技术对光纤的需求大大增长，光纤光谱仪，从而开发了低损耗的石英光纤。该光纤同样可以用于测量光纤，把被测样品产生的信号光传导到光谱仪的光学平台中。由于光纤的耦合非常容易，所以可以很方便地搭建起由光源、采样附件和微型光谱仪组成的模块化测量系统。
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